Système plasma basse pression Aurora Plus
Aurora Plus est une plate-forme pour le dépôt avancé de couches minces par plasma. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) offre des options de revêtement et des propriétés telles que des revêtements à faible CoF, hydrophiles et hydrophobes.
Il s'agit donc d'un procédé adapté à de nombreux domaines d'application, par exemple l'industrie automobile, la technologie des appareils médicaux et la fabrication de systèmes d'étanchéité. Les systèmes de contrôle étroit des processus et de stockage des recettes garantissent un traitement sûr dans la production industrielle en série ainsi que dans les applications de recherche et de développement.
- Immersion primaire complète du plasma pour un traitement uniforme des pièces complexes
- Électrodes à paroi latérale unique pour le traitement de plusieurs étagères ou de pièces plus grandes
- Dimensions de la chambre : 21,5« x 15,74 » x 16,5"
- Contrôle PLC avec écran tactile pour un contrôle étroit du processus
- Stockage des recettes de processus sous protection par mot de passe
- Régulateurs de débit massique multiples pour un débit et un mélange de gaz précis
- Générateur 1000 watts, 13,56 RF et réseau de correspondance automatique
- Ajout d'une livraison de précurseur liquide à contrôle thermique
- Option de pulsation du générateur
- Option de chambre chauffée

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